本文介紹了薄膜的物理制備的真空蒸發(fā)方法，包括真空蒸發(fā)原理、蒸發(fā)源的蒸發(fā)特性及薄厚分布、蒸發(fā)源的類型、合金及化合物的蒸發(fā)、膜厚和淀積速率的測量與監(jiān)控等內(nèi)容。